光催化沉积相关论文
基于二氧化钛纳米管阵列的光诱导约束刻蚀体系初探 田昭武院士提出的约束刻蚀剂层技术(CELT)已经在半导体材料，金属材料及合金上......
对光催化沉积法（PCD）制备Pd膜进行了改进，使含有TiO2与Pd^2＋的悬浮液膜层在多孔陶瓷膜表面形成液体薄膜，该薄膜在紫外光直接照射下发生......
利用某些物质,如:锐钛型TiO2h具有的半导体特性,当用某种能量的光(通常用紫外光)照射时,其价带上的电子被激发到导带上,形成高活性......
