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光刻反转相关论文

微F-P腔可调谐滤波器关键工艺研究

采用表面加工工艺,AZ5214E光刻胶进行光刻并反转,磁控溅射Ni Cr合金,剥离出高度为2.3μm的金属桥墩,填充聚酰亚胺作为牺牲层,再在......

期刊

微法布里—珀罗(F-P)腔光刻反转磁控溅射剥离 micro Fabry-Perot（F-P） cavity photolithography rever

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