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光刻胶碳化变性相关论文

ICP刻蚀对光刻胶掩模及刻蚀图形侧壁的影响

采用AZ1500光刻胶作为掩模对GaAs和InP进行ICP刻蚀, 研究了刻蚀参数对光刻胶掩模及刻蚀图形侧壁的影响。结果表明, 光刻胶的碳化变......

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ICP刻蚀 Cl2/Ar Cl2/BCl3 光刻胶碳化变性刻蚀图形侧壁 ICP etching Cl2/Ar Cl2/BCl3 carbonized dena

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