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光敏混合物相关论文

后烘对驻波效应的影响分析

研究了不同后烘情况下的PAC浓度分布和抗蚀剂的显影轮廓，结果表明适当的后烘可明显减小驻波缺陷，提高光刻质量，而过量的后烘将会导致......

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后烘驻波效应抗蚀剂光敏混合物显影轮廓

光刻胶烘培特性研究

通过研究光刻胶厚度与烘培过程中光敏混合物(PAC)浓度分布的关系,对光刻胶前烘模型进行了修正,得出了光刻胶内 PAC 相对浓度与光刻......

期刊

微光学光刻胶前烘模型特性分析光敏混合物

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