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美国普渡大学的研究人员开发出一种＂等离子氧化材料＂,有望带来比传统硅基电子技术至少快10倍的超快全光通讯技术。据悉,光通讯是用激......
等离子刻蚀技术作为一门较新的技术在半导体集成电路MEMS、光通讯技术及传感器制作等领域广泛应用。......
