区熔炉相关论文
为了满足市场对Φ４英寸单晶的需求，我们针对ＦＺ１４－１型区熔单晶炉在Φ４英寸单晶生长过程中常出现的问题，经过分析进行了改进，基本消除了在拉制Φ......
介绍模糊控制算法在区熔炉温度控制系统中的应用。为消除系统的稳态误差，采用全系数法对系统进行辨识，以确定系统的静态增益。通过调......
该文从应用的角度分析了ＴＤＬ－ＦＺ３５型区熔炉存在的一些问题；阐述了提高ＴＤＬ－ＦＺ３５型区熔炉的综合性能的一些方法。......
Ｆｚ１１５型区熔炉是八十年代末设计用于生产区熔单晶硅，有八十年代初国际先进水平的炉子。本文着重介绍该炉的技术性能，主要机构的设计，动作原......
高反压、大电流电力电子器件的发展要求区熔硅单晶直径进一步增大。大直径区熔硅单晶的拉制最大困难在于高频加热设备能力和成晶工......
本文介绍了TDG-28型大直径区熔单晶炉的主要技术指标和性能特点。该炉在一定的工艺条件下可以稳定生产直径为75mm～100mm的高阻率无......
云南驰宏锌锗股份有限公司对生产区熔锗锭的区熔炉进行改进,采用改进后的设备后,每年增产区熔锗锭2000kg,ZGe-1牌号的产品合格率由......
分别采用L4375-ZE区熔炉和CFG/1400P区熔炉,生长了N型、（1.5～4.5）×103Ω.cm和P型、（1.0～5.0）×104Ω.cm两种规格的高阻区熔硅单......
