单晶圆清洗相关论文
利用臭氧消毒水和淡氟氢酸清洗技术,使设备生产厂家的单晶圆旋转清洗工艺适应向小型生产线转入的应用,从而使生产周期的缩短成为可......
随着器件结构尺寸的缩小.在保持低材料损失的同时去除粒子正变得越来越难以实现.而且围绕材料和器件结构保持器件避免损伤、侵袭或......
在半导体制造流程中,晶圆清洗正在成为一种更加关键的工序模块.因为集成度的提高,需制定适合于清洗机及更高器件结构均匀性的要求.......
利用臭氧消毒水和淡氟氢酸清洗技术，使设备生产厂家的单晶圆旋转清洗工艺适应向小型生产线转入的应用，从而使生产周期的缩短成为可能......
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随着器件结构尺寸的缩小，在保持低材料损失的同时去除粒子正变得越来越难以实现。而且围绕材料和器件结构保持器件避免损伤、侵袭或......
介绍了常用的光刻版清洗工艺,并详细讲解了全自动光刻版清洗机的工作过程。同时,简单介绍了为提高光刻版清洗效果而设计的浸泡系统......
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