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宏孔硅是孔径在微米尺寸的多孔硅,其制备方法分为深反应离子刻蚀和光电化学腐蚀。与深反应离子刻蚀相比,光电化学腐蚀具有高长径比......
传统的薄膜晶柱状X射线闪烁屏存在光串扰的问题,导致其分辨率不高,虽然降低其厚度可以提高分辨率,但同时也降低了其探测效率。而基......
本文报道了硅电化学腐蚀过程中宏孔硅腐蚀速率的影响因素研究。通过改变HF溶液浓度、表面活性剂类型、腐蚀电压三个方面进行光电化......
光子晶体是由不同介电常数的周期性电介质材料组成的,由于其独特的光子禁带性质,广泛应用在光学器件、光集成、探测和红外传感器等......
