低温等离子体在传统和新兴工业领域有着越来越突出的地位,其中射频等离子体作为一种重要类型的等离子体也受到人们的广泛关注和深......

射频感性耦合等离子体(Radio-Frequency Inductively Coupled Plasma,RF-ICP)源可以利用简单的装置在低气压条件下产生高密度等离......

近些年来，射频感性耦合等离子体(Inductively coupled plasma,简写为ICP)在实验室和工业研究中得到了广泛的应用。感性耦合等离子体......

实验研究了匹配状态、放电气压对氩气射频感性耦合等离子体中受迫振荡的影响。结果表明：受迫振荡总是出现在放电的正反馈区；在高气压......

研究了射频感性耦和等离子体(ICP)中悬浮电位在模式转化过程(E-H模式)的变化多样性。实验研究了射频功率在5W-1000W,气压在2Pa-50P......

通过改变基片电极与地之间的外部LCR网络阻抗,控制射频感性耦合等离子体中基片电极的射频调谐自偏压。在过去的实验研究中,已发现......

射频感性耦合等离子体源(inductively coupled plasma source, ICP)具有低压高密、均匀性好、装置简单及性价比高等特点,在半导体......

射频感性耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma, ICP)源具有放电气压低,等离子体密度高,均匀性易于控制,装置简单,无需外加直......

射频感性耦合等离子体(Inductively oupled Plasma,ICP)具有工作气压低、等离子体密度高、装置简单等优点,在半导体芯片制造工艺中......