射频感性耦合等离子体源(inductively coupled plasma source, ICP)具有低压高密、均匀性好、装置简单及性价比高等特点,在半导体......

近年来,低温等离子体工艺在超大规模集成电路、微机电系统加工、材料表面改性、新型薄膜材料以及纳米材料制备等前沿科技领域中有......

本文研制了一种由多个碰撞条件下凹腔型射频感应耦合等离子体组合而形成的高密度,大面积均匀等离子体源。碰撞条件下的凹腔型感应......