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磁控溅射镀膜机基片膜厚的均匀性分析
基片膜厚均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要因素,磁控溅射镀膜是最常用的薄膜制备方法之一,针对磁控溅射镀膜技术的膜......
学位
磁控溅射技术
溅射镀膜
小平面靶
膜厚均匀性
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