溅射镀膜相关论文
随着消费类电子设备日益走向小型化、高速率,今后的封装发展的过程中将始终伴随着严重的电磁干扰问题。本文基于系统级封装中常见......
混凝土由于具备价格低廉,便于取材以及性能优越等优势,成为了世界上应用范围最广且使用量最大的建筑材料,钢筋混凝土结构也成为了......
本文研究了脉冲激光溅射镀膜技术沉积WO_3基片在室温下,沉积的WO_3膜部分晶化并部分还原.经热处理,在450℃左右膜层开始晶化,最后......
给出了作为波导半径函数的弯曲损耗，讨论了小透光孔径波导的优越性，提出了射频（ＲＦ）溅射镀膜的一种新方法，然后用这种方法作成长度相同、导......
对于沉积态非晶薄膜,通过严格控制其快速热处理时间,从而制备出了部分晶化钡铁氧体薄膜.原子力显微镜(AFM)观察表明,与完全晶化的......
近年来,各种工业生产规模的玻璃基片大平面磁控溅射生产线发展迅速,令人关注。本文针对这一领域,就主要膜系开发、设备结构、工艺......
近年来,各种工业生产规模的玻璃基片大平面磁控溅射生产线发展迅速,令人关注。本文针对这一领域,就主要膜系开发、设备结构、工艺......
现代工业的发展要求真空镀膜设备具有对复杂曲而零部件进行均匀镀膜的能力,要实现此类工件的镀膜要求,只有引进机器人技术才能达到......
摘 要 溅射技术属于PVD（物理气相沉积）技术的一种，是利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被溅射的物质制......
超声波技术在溅射镀膜用材料方面的检测采用了先进的非接触式无伤检测的方式,且通过声波的回收处理后可对靶材粘结材料内部结合情......
简单介绍了掺TiO_2的SnO_2薄膜丙酮气敏元件的制作,重点分析不同的掺杂溅射镀膜时间、不同加热电压对灵敏度的影响。对不同有机蒸......
2018年11月11~12日第十二届全国表面工程大会表面技术装备论坛会议在昆明召开。共安排23个邀请报告和13个口头报告。英国真科公司......
用软件SRIM及蒙特卡罗法综合模拟了靶材溅射及溅射原子输运的过程.模拟结果包括溅射原子输运到衬底时的能量、入射角和入射位置.由......
金属薄膜的制备及薄膜特性的研究是当今微电子技术发展和材料科学研究领域中的重要课题.本文介绍了如何将溅射镀膜及薄膜生长的动......
物理气相沉积（Physical Vapor Deposition PVD）是在真空条件下,利用各种物理方法,将涂料气化成原子、分子或电离成离子,直接沉积到基......
为了研究Ar离子注入对薄膜沉积的影响,使用2 keV的氩离子对PET进行表面注入,注入剂量为5×1011ions.cm-2,然后用离子溅射镀膜......
<正>(接2017年第5期第80页)(2)中频溅射的沉积速率高。对硅靶,中频反应溅射的沉积速率是直流反应溅射速率的10倍。比射频溅射高五......
所研制的三级液压机车落轮检修装置主要包括液压传动系统和机电操控系统。设计的关键点在于：采用三级液压和具有中位截止功能的三位......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
大规模生产高质量薄膜产品是今后镀膜设备需要解决的问题。等离子体或离子辅助镀膜现在被广泛应用于高质量膜系生产中并取得了良好......
塑料制品的金属化处理韩昌升（北京市久发工贸公司，１０００２９）ＭｅｔａｌｌｉｚａｔｉｏｎＴｒｅａｔｍｅｎｔｏｆＰｌａｓｔｉｃＰｒｏｄｕｃｔｓ￥ＨａｎＣｈａｎｇｓｈｅｎｇ（ＢｅｉｊｉｎｇＪｉｕｆａＩｎｄｕｓｔｒｉａｌａｎｄＴｒａｄｅＣｏｍｐａｎｙ，１０.........
本文介绍了真空下各种镀膜技术的基本概念,讨论了各种镀膜装置的镀膜方式、特点和应用及真空镀膜技术的发展现状及趋势。......
对陶瓷与金属Ti Ag Cu活性法出现的Ti Ag Cu活性合金焊料在不同金属表面的流散性进行了分析 ,解释了用Ti Ag Cu活性合金焊料焊接陶......
基片膜厚均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要因素,磁控溅射镀膜是最常用的薄膜制备方法之一,针对磁控溅射镀膜技术的膜......
石英晶体谐振器是常见的电子元件。由于其具有高精密、高稳定性等重要特点,是电子设备不可或缺的核心频率器件,是频率器件中是其它......
<正>(接2014年第5期第80页)靶—基距对沉积速率有很大影响,图19给出了S-枪靶的靶基距对沉积速率的影响。从图中可见,随着靶基距的......
用直流溅射法在硅(111)基底上制备银膜,膜厚为380nm.用BGS6341型电子薄膜应力分布测试仪对膜应力随退火温度的变化进行了研究,结果......
物理气相沉积技术目前主要有热蒸发、溅射、离子镀等方式。溅射技术的出现和应用已经经历了许多阶段,从二极溅射、三极溅射、磁控......
阐述了几种常见镀膜工艺的特点，进行工艺比较，结合当前的实际应用对镀膜的应用做了．一定的归纳和总结，对未来镀膜工艺进行展望。......
