利用粉体NbCl5作为Nb掺杂源，采用常压CVD方法合成了大尺寸Nb掺杂的少层MoS2薄膜。通过扫描电子显微镜和原子力显微镜观察获得了该薄......

本研究通过常压CVD法在玻璃基板上分别镀制单层SnO2∶Sb（ATO）薄膜和SnO_2∶F（FTO）/ATO复合薄膜,研究单层ATO薄膜和复合薄膜对玻璃光电......