无掩膜光刻相关论文
随着集成电路（IC）的高速发展以及半导体行业内摩尔定律（ML）的延续,集成电路的集成程度越来越高,这就意味着在一个同样大小的芯片上需要......
基于空间光调制器的无掩膜光刻是光刻技术重要发展方向之一.近年来,随着数字微镜器件芯片集成度与性能的提高,数字微镜器件无掩膜......
针对无掩膜光刻技术在进行大面积图形曝光时会出现曝光质量差,精度低,程序繁等问题,该文提出了一种改善无掩膜光刻机图形质量的方......
LED已经成为头盔液晶显示的主流背光光源,为了提升LED主视角亮度,减小背光模块的体积,对双自由曲面透镜进行了扁平化设计,形成透镜......
随着信息时代的发展,近眼显示技术在军用、商用、民用领域获得广泛应用,其结构也从传统的折返式透镜向平面光波导变化。传统的近眼......
为了提高数字灰度光刻系统的焦深,研究了基于点扩散函数稳定性的光瞳编码优化方法,在此基础上综合考虑系统的成像对比度和分辨率,......
微透镜是一种重要的光学元件,它具有重量轻、体积小、集成度高等优点,在光学、光电系统、微机电系统及传感器等领域中有着广泛的应......
回 回 产卜爹仇贱回——回 日E回。”。回祖 一回“。回干 肉果幻中 N_。NH lP7-ewwe--一”＄ MN。W;- __._——————》 砧叫]们......
由于掩膜的成本在整个光刻成本中所占的份额不断攀升,所以降低掩膜的成本,甚至发展到不需要昂贵的掩膜的无掩膜光刻技术已经成为了......
