无掩膜刻蚀相关论文
等离子体刻蚀技术因其较高的刻蚀速率、良好的方向性和材料选择性等优势得到了广泛应用。但在传统的刻蚀加工中，等离子体作用于整个......
传统的等离子体刻蚀中，等离子体是作用在整个样品表面上的，需要借助造价较高的设备仪器和繁冗的光刻工艺来实现局部刻蚀。利用尺寸在......
设计了一种用于微等离子体无掩膜刻蚀加工的微悬臂梁探针结构,即将微等离子体放电器集成在SiO2悬臂梁探针端部的空心针尖上,等离子......
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大气压微细冷等离子体射流是大气压下产生的直径为毫米至亚毫米量级的非平衡态等离子体射流。在总结大气压冷等离子体射流及其在半......
