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非平衡磁控溅射技术的关键就是设计非平衡磁控溅射靶的靶面磁场分布。改善靶面横向磁场分布的均匀性是提高靶材利用率的有效途径。......
磁控溅射靶枪中磁通量密度的横向分布情况对靶材的利用率、沉积薄膜的质量及磁控溅射过程的稳定性等都有重大的影响。利用有限元理......