氮化铪相关论文
传统的表面等离激元材料,由于其介电函数虚部不可忽略,在金属与光的相互作用过程中,所造成的吸收损耗是在所难免的。而氮化钛(TiN)......
据日本《电子材料》2003年第8期报道,日本东芝公司在65nm CMOS工艺线成功地开发了世界最低功耗的晶体管。该晶体管采用氮化铪(HfS......
Berkeley实验室的研究人员在Si衬底上采用氮化铪(H_fN)中间层生长出优良结构和光学质量的GaN膜。这些研究人员还建立了在Si上淀积......
表面粗糙度是薄膜材料的一个重要的表面属性,影响了如摩擦系数、亲疏水性和光反射等众多性能。随着催化,自清洁,生物医学,固体润滑......
本研究探讨了一步法制备HfN复合硅酸镧盐陶瓷材料的可行性和配方设计问题,并对HfO2-Si3N4-La2O3三元系统反应合成HfN进行了实验验......
期刊
利用反应式磁控溅射镀膜系统在蓝宝石衬底上制备了氮化铪(HfxN)薄膜,系统研究了氮气流量fN和镀膜温度Ts对HfxN薄膜的物相组成、晶......
应用于大型红外望远镜、夜视仪、定点追踪系统以及太阳能集热器的红外反射涂层和选择性吸收涂层不但需要有良好的光学性能,还要有......
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运用基于密度泛函理论的超软赝势平面波方法对HfN晶体结构进行了几何优化,得到与实验值相符的晶格参数。在压强为0~150GPa范围内对H......