沉积压力相关论文
采用化学气相沉积法在高纯石墨基体表面制备了碳化硅(SiC)涂层,研究了基体位置和沉积压力对涂层组织形貌和抗氧化性能的影响.结果......
本文利用13.56MHz射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术高速沉积非晶/微晶过渡区的微晶硅(μc-Si:H)薄膜.研究了沉积压力、......
会议
在微晶硅太阳电池中,P层作为电池的窗口层对电池的性能有重要影响.本文采用射频等离子增强化学气相沉积(RF-PECVD)的方法制备P型氢......
采用化学气相沉积法制备的聚氯代对二甲苯(PPXC)薄膜具有优异的耐溶剂腐蚀及气体阻隔性能,其沉积聚合过程中,沉积压力对膜的结构与......
研究不同沉积压力对化学气相沉积CVD金刚石涂层的组织结构及切削性能的影响。采用热丝化学气相沉积(HFCVD)方法,在不同的沉积压力......
文章从采油生产实际出发,结合理论分析,总结得出导致抽油机井杆管偏磨的主要因素。通过现场验证光杆振动载荷与沉没压力的变化关系......
采用射频（RF）磁控溅射方法在玻璃衬底上制备了氢化纳米硅薄膜,研究了沉积压力（4-9 Pa）对薄膜结构和性能的影响。利用XRD、SEM、紫外-可......
用直流磁控溅射在钢基体上交替溅射制备了MoSx/MoSx-Mo纳米多层膜.采用划痕仪测试薄膜与基体的结合力;采用SEM和XRD分析了纳米多层......
采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜，研究了沉积压力对薄膜的结构和性能的影响。利用XRF、轮廓仪和XRD分析测试薄膜的......
目的研究不同沉积压力对磁控溅射La-Ti/WS_2复合薄膜微观结构及摩擦学性能的影响。方法采用非平衡射频磁控溅射法制备WS_2薄膜和La......
目的研究不同沉积压力对磁控溅射WS2薄膜微观结构、力学性能和摩擦学性能的影响。方法采用射频磁控溅射法制备WS2薄膜。利用扫描电......
注浆是解决矿井水害的一种有效方法。为了更好地研究动水注浆过程中浆液沉积压力特征与堵水效果,基于自主设计的流体力学综合试验......
采用直流磁控溅射方法在氧化锆固体电解质表面制备了Mg金属薄膜,利用XRD和SEM研究了沉积压力（0.9～2.1 Pa）对薄膜形貌和结构的影响.结......
本文系统研究了沉积温度、压力、Zn/H2S、以及衬底表面粗糙度对起拱的影响。实验表明,适当的提高沉积温度（650℃）和降低沉积压力（1.5&......
以氢气和四甲基硅烷作为先驱气体,采用微波等离子体化学气相沉积法,不同沉积压力条件下、在YG6硬质合金表面制备了的SiC涂层。利用......
从前处理、升华温度、裂解温度、沉积压力、基体温度和膜层厚度等方面讨论了Parylene处理技术在国内外高频电路防护方面的应用概况......
采用化学气相沉积法制备的聚氯代对二甲苯(PPXC)薄膜具有优异的耐溶剂腐蚀及气体阻隔性能,其沉积聚合过程中,沉积压力对膜的结构与......
采用X射线衍射(XRD),MOCON透湿仪等研究了不同沉积压力下制备Parylene C膜的结晶度、水蒸汽透过性、拉伸强度、雾度、透明度随沉积......
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