沉积电压相关论文
采用阴极等离子液相沉积在镍基高温合金上制备了外层具有多孔结构，与合金基体结合的内层为致密结构的γ-Al2O3涂层.测试了电解液的C......
采用脉冲电弧放电沉积法在SiC-C/C复合材料表面制备了硅酸锆-三氧化二硼的复合(ZrSiO4-B2O3)抗氧化涂层。采用XRD和SEM等测试手段......
本研究采用电化学法在室温下快速沉积制备CdSe薄膜，通过考察沉积电压对薄膜形貌及结构的影响，选择出制备CdSe薄膜的最佳沉积电压。采......
分别通过向沉积液内添加表面活性剂、改变沉积电压、调节沉积液PH值、改变电沉积时间等条件在阳极氧化铝表面交流电沉积二氧化......
研究了不同的沉积电压对辅助加热式PCVD -TiN涂层的影响。实验证明 ,提高沉积电压可以细化TiN涂层的柱状晶结构 ,增加TiN涂层的显......
采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X-射线衍射仪(XRD)对薄膜的结构进行了表征,研究了沉积电压对薄膜的晶相组......
为了提高生物惰性材料C/C的生物活性以及C/C基体与生物活性材料羟基磷灰石(HAp)的结合强度,以丙烯酰胺单体(AM)和声化学制备的纳米......
本文采用了电化学沉积法在FTO导电玻璃上制备了透明氧化亚铜薄膜。通过改变沉积电压及时间得到了性能不同的薄膜，对所得到的样品进......
本文利用电化学沉积方法制备了一系列不同形貌和结构的CoAg合金纳米线。直流方法主要研究了CoAg纳米线的生长机理,具体讨论了电流-......
合金纳米材料有许多单质金属纳米材料无法比拟的优异性能,目前受到了研究人员的高度重视。本篇文章使用VERSASTAT3电化学工作站在......
采用三电极体系,以钼片为工作电极,大面积铂网为辅助电极,饱和甘汞电极(SCE)为参比电极,以氯化铜、氯化铟、亚硒酸为原料,在无水乙......
Cr2O3薄膜具有保护性，采用电沉积．热解法制备还未见报道。采用电沉积．热解法在304不锈钢表面制备Cr2O3薄膜，并将其于900℃高温氧化100h......
以Se02，CdCl2·5／2H2O9H2SO4为原料，采用三电极体系，分别在ITO玻璃和Ti02纳米管阵列基底上沉积CdSe薄膜。研究了不同沉积电压（-0．6，-0......
Cristobalite aluminum phosphate (C-AlPO_4) coatings were prepared by a hydrothermal electrophoretic deposition process o......
考察了pH、温度和沉积电压对CuBr形貌的影响.实验结果表明：在电沉积溶液pH为1.0~5.0时,CuBr沉积形貌主要以正四面体形状为主,随着pH......
研究了不同的沉积电压对辅助加热式ＰＣＶＤ－ＴｉＮ涂层的影响。实验证明，提高沉积电压可以细化ＴｉＮ涂层的柱状晶结构，增加ＴｉＮ涂层的显微硬度和沉积速率。在......
The anodic overvoltage of neodymium electrolysis was determined by slow scanning oscillogram. The effects of some factor......
采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜，并用X-射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）以及紫外／可见／近红外光谱仪对薄膜的结构和......
采用水热电泳沉积法在SiC-C／C复合材料表面制备纳米碳化硅和二硅化钼的复相（SiCn-MoSi2）抗氧化涂层．分别采用XRD和SEM等测试手段对涂层......
以硅酸锆粉体为原料,异丙醇为溶剂,碘为荷电介质,采用水热电泳沉积法在C/C-SiC复合材料基体表面制备了硅酸锆外涂层。通过X射线衍......
采用水热电泳沉积法在SiC-C／C复合材料SiC内涂层表面制备了硅酸钇抗氧化外涂层，并借助X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）对涂层的相组......
先采用电泳沉积工艺在Ni基体上均匀沉积Fe2O3膜，然后采用电镀技术在Fe2O3膜中沉积金属Ni，得到含Fe2O3质量分数较高的Ni-Fe2O3复合镀......
采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜，并用X-射线衍射仪（XRD）对薄膜的结构进行了表征，研究了沉积电压对薄膜的晶相组成的......
采用电化学沉积法制备纳米ZnO多孔薄膜。并用XRD、SEM、XPS等方法研究了沉积电压对薄膜表面形貌及薄膜表面元素态的影响。结果表明......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
液相法以成本低、制备工艺简单等特点成为制备非晶碳膜的热点。然而适合工业化生产的制备工艺参数尚不明确。以Si单晶为基底,通过......
采用三电极体系，以钼片为工作电极，大面积铂网为辅助电极，饱和甘汞电极（SCE）为参比电极，以氯化铜、氯化铟、亚硒酸为原料，在无水乙醇溶液......
采用电化学沉积的方法制备出球状、棒状、树枝状、立方体状、带孔洞的多面体状的纳米银。扫描电镜的显微观察结果显示,沉积电压不......
采用水热电沉积法在碳/碳复合材料表面制各了羟基磷灰石(hydroxyapatite,HAp)涂层,用X射线衍射、扫描电子显微镜,万能材料试验机等......
以莫来石粉体（3Al2O3·2SiO2）为原料,采用水热电泳沉积法在C/C-SiC复合材料表面制备了莫来石外涂层。借助XRD和SEM等对涂层的晶......
室温下,以CdSO4、H2SeO3和Na2SO4为原料,采用二电极体系,利用电化学法在ITO玻璃基底上沉积了CdSe薄膜。采用高分辨X射线衍射仪(HRX......
沉积电压是电泳沉积工艺的重要参数之一。为研究其对电泳沉积成膜均匀性的影响,对带电粒子的电泳过程进行理论分析,并结合COMSOL多......
采用电化学沉积法在PAN基碳纤维（CF）表面制备了钙磷涂层.通过SEM（Scanning Electron Microscope）、EDS（Energy Disperse Spectroscopy）和......
