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深槽刻蚀技术相关论文
硅的深槽刻蚀技术研究
研究了采用等离子刻蚀机对硅进行深槽刻蚀中掩蔽层的选择及横向腐蚀的抑制等工艺问题.实验发现,以氟基气体作为工艺气体,铝或铝合......
期刊
硅
深槽刻蚀技术
等离子刻蚀机
掩蔽层
氟基气体
各向异性
MEMS SOI Plasma etching Deep etching Selectivity I
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