溅射装置相关论文
复合电磁靶是由两个电磁铁分别产生两个圆环状跑道磁场的新型磁控靶。两个跑道磁场的水平磁场均可连续调节，对应两个跑道磁场分别安......
<正>电子回旋共振(ECR)等离子体法广泛用于SiO_2、Si_3N_4膜等的低温CVD技术,以及MOS器件的微细栅极刻蚀技术。在ECR等离子体法中,......
采用在真空室内加旋转筒的方法，将某平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置。运行结果表明，利用筒体旋转的方法，可以在粒度100μm左右的......
本发明提供了即使利用溅射法在多个连续基板上形成电解质膜也能使成膜速度和Sr／Ti组成比一定的技术。本发明的溅射装置在真空槽内底......
一种溅射装置包括基座以及多个靶器件。基板紧固地固定在基座上。靶器件是可旋转的并且设置为与基板的中心区域和基板中与中心区域......
本发明提供简单易行的制造膜厚倾斜程度大的薄膜的薄膜制造方法及溅射装置。该方法通过使真空室内的成膜工序区和反应工序区在空间......
日本山口大学的储桥信一教授研制成功一种可任意调整沉积膜沉积速度的溅射（成膜）装置。在薄膜之类柔软的基板上沉积涂层时为了防止损......
<正> 众所周知,金刚石在所有物质中是热传导率最高的物质,故在工业中利用金刚石作为高温散热材料具有最好的性能。 随着电子器件的......
