磁控溅射源相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

磁控溅射源相关论文

磁约束磁控溅射源工作特性及沉积速率的分析

为了提高靶材的利用率,将磁约束原理应用于磁控溅射技术中.采用直流矩形平面磁控溅射源,测量了磁约束磁控溅射源稳定工作状态下的......

期刊

磁约束磁控溅射磁控溅射源沉积速率 magnetic confinement magnetron sputtering magnetron sputteri

平面旋转磁控溅射源的研究

本文根据对国内外现有适用微电子器件生产的圆形平面溅射源的基本特性的分析比较,通过对平面磁控溅射靶的磁场分布和溅射距离同沉......

期刊

磁控溅射源溅射距离膜厚均匀性

磁约束磁控溅射源的特性测试

目前,磁控溅射技术已经广泛应用在表面改性、装饰薄膜、光学薄膜、超导薄膜以及功能薄膜等的制备中。其中,非平衡磁控溅射的离子(......

学位

磁约束磁控溅射源特性测试朗缪尔探针等离子体诊断

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