磁控靶相关论文
该论文介绍的两用型磁控是真空镀膜源设计的一个新的思路.它将磁控溅射技术和多弧技术结合一起,即采用一个靶,通过合理地设计磁场......
本文应用磁控溅射设备制备TiO2亲水性薄膜，并通过日立(HITACHI)U-2800紫外可见分光光度计、X射线衍射分析仪(XRD)、原子力显微镜(AF......
高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)因其高离化率而得到广泛关注,是目前的热点研究方向,为此我们搭建了试验平台并对HPPMS的放电特性进行了......
