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移相掩膜光刻相关论文
45nm光刻板缺陷在硅片上的成像性研究
随着浸没式步进扫描光刻机台ASML 1900Gi的引入,国内晶圆制造将逐步进入45,32纳米时代。对45纳米及更高端的技术节点而言,浸入式光......
学位
浸没式光刻
45纳米
缺陷
移相掩膜光刻
光刻板
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