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微晶硅薄膜制备中等离子体功率的调制作用
对甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)法制备氢化微晶硅(μc-SiH)薄膜中等离子体功率的影响进行了研究。原位光发射谱(OES)监测......
期刊
甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)
氢化微晶硅(μc-SiH)薄膜
光发射谱
等离子体功率调制作用
VHF-PECVD μc-Si: H th
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