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等离子增强型原子层沉积相关论文

原子层沉积氮化钽薄膜的研究进展

在集成电路中,铜互连工艺需要沉积一层连续且保形性良好的铜阻挡层。氮化钽是一种过渡金属氮化物,由于其硬度高,导电性可控,对金属......

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TaN薄膜原子层沉积等离子增强型原子层沉积电阻率铜阻挡层 TaN filmatomic layer deposition(ALD)plasma enha

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