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相移掩膜应用于显示技术光刻细线化的初步研究
对基于不改造应用于显示技术的曝光设备而提高光刻解像力进行研究。用半导体工艺模拟及器件模拟软件模拟分析了离焦量为0时,两种相......
期刊
自准直式边缘相移掩膜、无铬相移掩膜
等间隔线
模拟
曝光容限
分辨率
在镜像投影曝光机上使用相移掩膜提高解像力的初步研究
实现高PPI(单位面积像素个数),需要更细的线宽和更窄的间距,这往往受到光刻设备解像力的限制,本文对基于不改造镜像投影曝光设备而......
期刊
相移掩膜
等间隔线
模拟
曝光容限
解像力
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