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背面刻蚀相关论文
X射线光刻掩模背面刻蚀过程中的形变仿真
开发了理论模型以验证有限元方法用于X射线光刻掩模刻蚀过程数值仿真的正确性.利用相同的有限元技术,对X射线光刻掩模的背面开窗、......
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X射线掩模
掩模形变
背面刻蚀
有限元
平面内形变
非平面形变
X-ray mask
mask distortion
back-etching
finit
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