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非平面形变相关论文

X射线光刻掩模背面刻蚀过程中的形变仿真

开发了理论模型以验证有限元方法用于X射线光刻掩模刻蚀过程数值仿真的正确性.利用相同的有限元技术,对X射线光刻掩模的背面开窗、......

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X射线掩模掩模形变背面刻蚀有限元平面内形变非平面形变 X-ray mask mask distortion back-etching finit

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