高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电可产生高密度、高溅射粒子离化率的等离子体，能够在基片表面获得高通量的靶材离子束流和自离子辅助......

试验中，测量了直径为１００－１６０ｍｍ的３种磁控管在０．１帕以下压强下的工作情况，在低，中等放电功率密度≤１０ｗ／ｃｍ＾２，氩气压强降到１．１～２×１０＾－２帕的范围时仍能达到稳定的放电......

通过采用大尺寸活性屏进行等离子渗氮处理,研究和分析了偏压及其“阈值”对大尺寸活性屏渗氮的影响。实验结果表明：采用大尺寸活性......

高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)因其较高的把材原子离化率和优异的薄膜成形性能,逐渐成为PVD领域的热点镀膜技术。把材原子的高度离化......

近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控......

近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控......