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高温退火工艺对直流反应磁控溅射制备蓝宝石基氮化铝模板的影响
采用直流反应磁控溅射与高温退火工艺大批量制备了膜厚为200 nm、400 nm及800 nm的2英寸蓝宝石基氮化铝模板,并对高温退火前后不同......
期刊
氮化铝
磁控溅射
高温退火
结晶质量
蓝宝石基
模板
aluminum nitridemagnetron sputteringhigh-temperature
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