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本文主要研究了双频容性耦合C2F6/Ar/O2等离子体中低频功率对等离子体化学以及其对SiCOH低k薄膜的刻蚀特性的影响。研究发现,对......
超大规模集成电路中器件密度的提高、特征线宽的减小导致互连线之间的阻容耦合不断增大,从而使信号传输延时、功耗增大、噪声增大......
用掩模分离方法或薄膜刻蚀方法制作出多波段微型滤光片列阵,交过类微型焦平面色散元件与列阵探测器结合,构成光谱可识别列阵探测器,报......