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多晶硅薄膜低温生长中的表面反应控制
报道用SiF4 和H2 的间接微波等离子体化学气相沉积方法低温生长多晶硅 (poly Si)薄膜 .实验发现 ,等离子体中的离子、荷电集团对薄......
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多晶硅薄膜
低温生长
表面生长反应
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