利用直流磁控溅射技术制备了三元硼碳氮（BCN）薄膜，通过改变靶功率（70W和210W）和基体偏压（-50V～-400V）得到不同成分和组织结构的薄膜。采用x......

采用射频磁控溅射技术制备MoS2-Sb2O3复合薄膜，研究靶功率对薄膜性能和结构的影响。利用XRD、XRF分析薄膜的成分和结构，用CSM薄膜综......