本文讨论了采用孪生对靶直流磁控溅射方法制备ZnO：Al（ZAO)薄膜材料，考察一定工艺条件下制备的ZAO 材料的霍耳迁移率、可见光透射率、......

由于制备低阻ZnO时功率比较大(相对本征ZnO而言),故溅射对薄膜衬底轰击较大.为了尽量减少溅射带来的轰击影响,我们采用了孪生对靶......

　　本论文研究了可用于超高密度垂直磁记录介质的NdFeB薄膜。由于四方Nd2Fe14B相的高单轴磁晶各向异性能(107erg/cm3)，可以允许把......

基于多元素靶溅射的Ａｕｄｅｒｓｅｎ－Ｓｉｇｍｕｎｄ关系式，在分析了大量的二、三元素合金溅 稳定态靶表面化学成分的变化之后，发现各元素之间表面结合能之比几乎与......