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直流磁控相关论文
高功率脉冲磁控(HiPIMS)具有常规直流磁控的沉积速率可能吗
电源是镀膜质量提高的关键控制因素之一,通过改变放电模式提高沉积速率是可行的,提出一种新型高离化率、高沉积速率磁控溅射技术,沉积......
会议
薄膜材料
高功率脉冲磁控
沉积速率
放电模式
超高密度垂直磁记录用NdFeB薄膜的研究
本论文研究了可用于超高密度垂直磁记录介质的NdFeB薄膜。由于四方Nd2Fe14B相的高单轴磁晶各向异性能(107erg/cm3),可以允许把......
学位
超高密度
垂直磁记录
NdFeB薄膜
直流磁控
靶溅射
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