【摘 要】
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透明导电氧化物(TCO)薄膜具有高的可见光透过率和高的电导率,在光电器件领域有着重要的应用.其中ITO薄膜是目前应用最广泛的透明导电薄膜材料,具有优越的光电性能;然而,In是
【机 构】
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湖北大学,材料科学与工程学院,武汉
【出 处】
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第一届全国宽禁带半导体学术及应用技术会议
论文部分内容阅读
透明导电氧化物(TCO)薄膜具有高的可见光透过率和高的电导率,在光电器件领域有着重要的应用.其中ITO薄膜是目前应用最广泛的透明导电薄膜材料,具有优越的光电性能;然而,In是稀有金属,ITO薄膜面临着材料短缺和价格升高的危险.目前研究表明,Nb金属掺杂的TiO2薄膜展现了可与ITO薄膜相比拟的光电特性,还具有成本低廉、无毒、高化学稳定性,高可见光折射率等突出优点.采用射频磁控溅射方法制备薄膜并对其光电性能方面进行研究，采用射频磁控溅射方法制备Nb掺杂Ti02薄膜，结果发现，薄膜沉积速率、光电性能对溅射过程中的氧分压极为敏感。为获得良好的性能的薄膜，必须严格的控制溅射过程中的氧分压。
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