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采用倍频Nd.YVO4脉冲激光，对具有Ag/ZnO背反层的柔性非晶硅薄膜太阳电池非晶硅层进行激光刻蚀研究。在激光刻蚀非晶硅的实验中，通过改变激光功率、激光重复频率、扫描速度、聚焦位置等参数，优化激光刻蚀工艺，得到线宽60μ，周围无明显尖峰(3D激光扫描显微镜)，满足薄膜太阳电池工艺要求的刻蚀线。