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采用新型的低压化学气相沉积(LPCVD)镀膜工艺技术-两步生长法(即第一步在玻璃基板上沉积ZnO∶B种籽层,第二步再调整工艺参数来快速生长ZnO∶B薄膜)沉积和制备ZnO∶B-TCO薄膜.研究表明,其中种籽层掺杂情况对整个TCO膜层的光学和电学性能有重要的影响,且当掺杂比(B2H6/DEZ)为0.4时,所制备膜层的光学和电学综合性能最优.