【摘 要】
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我们成功研制了一台纳米通用图形发生器,该图形发生器可以与扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、扫描探针显微镜(SPM)和聚焦离子束系统(FIB)连接,组成纳米曝光系统或
【机 构】
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中国科学院电工研究所微纳加工研究室,北京,100080
【出 处】
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第十三届全国电子束、离子束、光子束学术年会
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我们成功研制了一台纳米通用图形发生器,该图形发生器可以与扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、扫描探针显微镜(SPM)和聚焦离子束系统(FIB)连接,组成纳米曝光系统或加工系统,用于纳米器件研究、纳米结构制造.该图形发生器主要功能是:将计算机送来的曝光图形数据进行处理,分解成单元图形坐标值,再经过高精度、高速度数模转换器(D/A)变换成相对应的模拟量,驱动偏转放大器,对工件进行曝光或加工.图形发生器同时接通束闸单元,控制电子束或离子束的通与断,以及控制工件台的移动,以实现大面积图形的拚接和多层图形的套刻.该图形发生器已投入小批量生产,并在用户稳定运行.它与日本电子JSM-6360扫描电子显微镜连接,已获得21nm的曝光图形和纳米级的拚接精度和套刻精度.
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