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离子束增强沉积合成氮化钛薄膜的组份和结构分析
【机 构】
:
中国科学院上海冶金研究所
【出 处】
:
第六届全国电子束离子束光子束学术年会
【发表日期】
:
1991年期
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9月2日,科举制度废除整整100年.今天的人们,到底该怎样认识和解读科举,记者特意走访了长期从事科举研究的中国第一历史档案馆编研部主任李国荣研究员.
本文利用感应耦合成式等离子体化学气相沉积(PECVD)在Si(100)衬底上制备BN薄膜.反应气体为硼烷(BH)和氮气(N),控制一定的分压比和工作气压,射频功率为100W,衬底温度在500℃到
用热丝增强射频等离子体CVD法,在Si、Ni、Co、Ta、Ti、Mo人工合成金刚石薄膜和不锈钢等多种衬底材料上,生长出立方氮化硼薄膜。用X射线衍射谱和傅立叶转换红外谱对样品的结构和成份进行了分析;并
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