电沉积纳米金属多层膜研究

来源 :中国电子学会第六届生产技术学分会学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:guigui1987
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本文分别采用单槽法和双槽法电沉积制备Cu/Ni多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用俄歇电子能谱和扫描电子显微镜(SEM)确定镀层结构.通过对比分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点.
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