【摘 要】
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采用电子束蒸发技术在玻璃及单晶硅衬底上制备TiO2薄膜，并分别引入离子束辅助轰击、斜角入射沉积等工艺方法，研究了沉积工艺对薄膜折射率的调控作用。利用X射线衍射（XRD）、X
【机 构】
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湖南大学材料科学与工程学院，湖南长沙 410082
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采用电子束蒸发技术在玻璃及单晶硅衬底上制备TiO2薄膜，并分别引入离子束辅助轰击、斜角入射沉积等工艺方法，研究了沉积工艺对薄膜折射率的调控作用。利用X射线衍射（XRD）、X射线光电子能谱（XPS）对薄膜的组织结构、成分含量进行了表征，采用紫外可见光分光光度计测试了薄膜的光谱性能并计算其折射率。结果表明，采用电子束蒸镀技术制备的TiO2薄膜的折射率低于其块体值，通过降低氧气压、提高沉积速率或升高衬底温度等工艺手段可有效提高TiO2薄膜的折射率；离子束辅助轰击可使薄膜致密化，获得稳定的高折射率，具体变化规律与离子源的辅助轰击离子种类、屏压及束流相关。利用斜角入射沉积则可通过控制薄膜生长角度和孔隙率明显降低折射率，并有效改善薄膜的光谱性能。
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