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  5. 衬底温度对溅射后腐蚀法制备绒面ZnO透明导电膜性能的影响

衬底温度对溅射后腐蚀法制备绒面ZnO透明导电膜性能的影响

来源 :第九届中国太阳能光伏会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：123hui
【摘 要】
：
本文利用中频脉冲磁控溅射方法,采用重量2﹪的Al掺杂Zn(纯度99.99﹪)为靶材制备平面透明导电ZnO:Al薄膜,利用湿法腐蚀方法,将平面ZAO薄膜在0.5﹪的稀盐酸中浸泡一定时间后,形成表面
【作 者】
：
薛俊明[1]黄宇[2]孙建[1]赵颖[1]耿新华[1] 
【机 构】
：
南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071
【出 处】
：
第九届中国太阳能光伏会议
【发表日期】
：
2006年期
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本文利用中频脉冲磁控溅射方法,采用重量2﹪的Al掺杂Zn(纯度99.99﹪)为靶材制备平面透明导电ZnO:Al薄膜,利用湿法腐蚀方法,将平面ZAO薄膜在0.5﹪的稀盐酸中浸泡一定时间后,形成表面凹凸起伏的绒面结构.研究了平面ZAO薄膜的结构特性,以及衬底温度对绒面ZAO薄膜表面形貌的影响.结果表明:高温、低功率条件下制备的绒面ZAO薄膜表面形貌较好,可用于硅基薄膜太阳电池.
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