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该文研究了在不同温度、气氛条件下Ｗ－Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉体系的界面反应情况，结果表明：体系反应产物为Ｗ〈，５〉Ｓｉ〈，３〉和ＷＳｉ〈，２〉，未发现其它硅化物和氮化物。反应温度、气氛、时间对产物物相均有影响。建立了界面反应的动力学模型，并得到Ｓｉ在不同温度下的产物层中的扩散系数。
W/Si<,3>N<,4>界面反应动力学研究
【摘 要】
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该文研究了在不同温度、气氛条件下Ｗ－Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉体系的界面反应情况，结果表明：体系反应产物为Ｗ〈，５〉Ｓｉ〈，３〉和ＷＳｉ〈，２〉，未发现其它硅化物和氮化物。反应温度、气氛、时间对产物物相均有影响。
【机 构】
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大学材料科学与工程系(北京)
【出 处】
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第九届全国特种陶瓷学术年会
【发表日期】
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1996年期
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