论文部分内容阅读
硅抛光片表面微粗糙度测量的初步探讨
【机 构】
:
硅材料厂
【出 处】
:
1998年全国半导体硅材料学术会议
【发表日期】
:
1998年期
其他文献
该文通过试验分析了抛光雾产生的机理和影响因素;并在试验的基础,优化选择了抛光工艺技术,有效地控制了抛光雾,取得较好的经济效益和社会效益。
通过对田湾核电站已运行的1、2号机组的设计文件组卷归档,详细介绍了组织机构、工作计划、培训学习、工作细则、审查制度,同时为田湾核电站即将开工建设的3、4号机组设计文件