【摘 要】
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电子束曝光技术是微电子、光电子和微机械研究和器件生 产的关键技术.电子束曝光是掩模制作的主要手段.电子束直写(EBDW)系统可达分辨率5nm,成为纳米器件、纳米结构研究的关
【出 处】
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第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会
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电子束曝光技术是微电子、光电子和微机械研究和器件生 产的关键技术.电子束曝光是掩模制作的主要手段.电子束直写(EBDW)系统可达分辨率5nm,成为纳米器件、纳米结构研究的关键设备.EBDW还用于制作三维微结构、全息图形、表面诱导沉积和表面改性.当前对电子束曝光技术的研究主要聚焦在三个方面:高分辨率的直接光刻;高生产率的规模生产技术;下一代纳米级器件规模生产用电子束曝光技术.
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