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用脉冲激光沉积法已在单个钼尖锥发射体和蓝宝石衬度上生成场发射体碳膜。对沉积在单个钼尖锥上的碳膜进行了电流-电压特性测量，并与未涂碳膜的单个钼尖锥发射体的场发射进行了比较。对沉积在蓝宝石衬底上的场发射体碳膜进行了其他性能测量。文中对结果进行了讨论。
脉冲激光沉积制备场发射碳膜
【摘 要】
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用脉冲激光沉积法已在单个钼尖锥发射体和蓝宝石衬度上生成场发射体碳膜。对沉积在单个钼尖锥上的碳膜进行了电流-电压特性测量，并与未涂碳膜的单个钼尖锥发射体的场发射进行
【机 构】
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北京真空电子技术研究所
【出 处】
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第七届中国真空微电子学与场致发射学术年会
【发表日期】
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1999年期
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