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通过无电化学腐蚀技术，在125mm×125mm单晶硅衬底上制备出以纳米柱为主的纳米结构表面.实验结果表面，与传统的金字塔绒面陷光相比，该纳米结构有着良好的陷光效果，并在红外波段有着一定的响应.在350nm-1000nm的波段已获得的最低反射率达到3％，远远小于传统的金字塔绒面的反射率.通过对表面钝化工艺和后继的电极制备工艺进行改进，所制备的电池效率达到了16.5％的水平.通过量子效率测试方面的分析，表明表面钝化工艺对于纳米陷光结构来说是十分必要的.