【摘 要】
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在低速高电荷态离子与固体表面相互作用过程中,大量的导带电子会转移到入射离子的外壳层空位上形成多电子激发的"空心原子",并在飞秒时间和纳米尺度范围内在固体表层沉积几十
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在低速高电荷态离子与固体表面相互作用过程中,大量的导带电子会转移到入射离子的外壳层空位上形成多电子激发的"空心原子",并在飞秒时间和纳米尺度范围内在固体表层沉积几十至几百keV的能量,能流功率密度可达1014W/cm2,致使表面形成纳米量级的蚀坑.与单电荷态离子相比,低速高电荷态离子引起的次级电子发射产额增加了1个量级,次级离子的溅射产额增加了近3个量级.利用这些新颖的特点,可以开创高激发态原子物理研究的新领域,并将在纳米材料和超小尺寸半导体芯片制作,固体表面处理和固体结构分析等领域得到广泛应用,因而受到了国际许多著名实验室的高度重视.在已有的工作中,低速高电荷态离子与固体表面相互作用的研究大都集中于Auger电子发射和自电离等过程,很少见到光辐射、特别是可见光辐射的研究.
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